Состав модернизированной ВУ-2МБС

Модернизированная вакуумная установка по сравнению с установкой ВУ-2МБС включает следующие дополнительные узлы:

1. Два планарных электродуговых источника с размерами катода 250х200 мм. Планарные дуговые источники не только значительно снижают канальную фазу, но и расширяют рабочую зону осаждения до 500 мм.
2. Два планарных ионных источника с энергией ионов до 2000 эВ и размерами ионного пучка на срезе анода 250х60 мм. Наличие ионных источников позволяет снизить температуру процесса, наносить покрытия на детали с низкой температурой отпуска и мелкоразмерные изделия, что практически недостижимо обычным электродуговым способом.
3. Программируемый прибор спектрального контроля и управления технологическим газом РРС-453. Прибор спектрального управления и контроля независимо от режимов работы оборудования поддерживает концентрацию плазмы на заданном уровне, тем самым обеспечивая воспроизводимость формируемых покрытий от цикла к циклу.
4. Прибор контроля температуры 10-ти канальный с возможностью замера температуры касания термопары.

Применение дополнительных узлов существенно расширяет технологические возможности, производительность установки и решает вопросы воспроизводимости формируемых покрытий.

Преимущества модернизированной ВУ-2МБС

Таким образом модернизированная вакуумная установка по сравнению с обычной ВУ-2МБС имеет ряд преимуществ:

1. Эффективная площадь осаждения покрытий больше, чем в два раза.
2. Значительно меньше капельная фаза.
3. Возможность проведения качественной очистки ионами газа, особенно это важным является для мелкоразмерных изделий и изделий с температурой отпуска 200-250^оС.
4. Возможность нанесения покрытий при пониженных температурах.
5. Возможность проведения сопутствующей ионной обработки (ионного ассистирования), тем самым формировать покрытия с высокими физико-механическими свойствами.
6. Возможность нанесения покрытий с воспроизводимыми механическими свойствами.