Ионные источники

В современных технологиях нанесения покрытий (вакуумное напыление) вакуумными методами ионные источники являются необходимым технологическим инструментом. При этом они должны обеспечивать как ионную очистку поверхности, так и сопутствующую обработку и релаксацию возникающих напряжений в напыляемых покрытиях.

Сочетание модификации поверхности ионами низких и средних энергий с осаждением покрытий позволяют формировать вакуумные покрытия с высокими спектральными, физико-механическими и эксплутационными характеристиками.

Характеристики ионных источников
  • Энергия ионов: 0-3000 эВ.
  • Размер рабочей зоны (LхBхH):
    - изотропно по всему объему вакуумной камеры (для коаксиальных источников);
    - (150-900)х80х300 мм (для источников с прямоугольной формой ионного пучка).
  • Рабочий ток:
    - 0-10 А (для коаксиальных ионных источников);
    - 0-1 А (для ионных источников с прямоугольной формой пучка).
  • Мощность блока питания: 2.5; 5; 7 кВт.
Консультация, оформление заказа, расчет стоимости
Наши клиенты
Компания «Технологии и Предложения» известна по всему миру. Мы работаем с крупными предприятиями от России до Канады. Узнайте полную географию охвата рынка и присоединяйтесь к нам!
Ваш партнер в области плазменной обработки поверхности
Компания
Соц. сети

© Технологии и предложения. Все права защищены. Разработка Websmart.