В современных технологиях нанесения покрытий (вакуумное напыление) вакуумными методами ионные источники являются необходимым технологическим инструментом. При этом они должны обеспечивать как ионную очистку поверхности, так и сопутствующую обработку и релаксацию возникающих напряжений в напыляемых покрытиях.
Сочетание модификации поверхности ионами низких и средних энергий с осаждением покрытий позволяют формировать вакуумные покрытия с высокими спектральными, физико-механическими и эксплутационными характеристиками.
- Энергия ионов: 0-3000 эВ.
- Размер рабочей зоны (LхBхH):
- изотропно по всему объему вакуумной камеры (для коаксиальных источников);
- (150-900)х80х300 мм (для источников с прямоугольной формой ионного пучка). - Рабочий ток:
- 0-10 А (для коаксиальных ионных источников);
- 0-1 А (для ионных источников с прямоугольной формой пучка). - Мощность блока питания: 2.5; 5; 7 кВт.
Наши клиенты
Компания «Технологии и Предложения» известна по всему миру. Мы работаем с крупными предприятиями от России до Канады. Узнайте полную географию охвата рынка и присоединяйтесь к нам!
Ваш партнер в области плазменной обработки поверхности