Приборы для управления ионно-плазменными процессами предназначены для контроля толщины покрытий и применяются в вакуумных установках нанесения покрытий с технологическими источниками типа магнетронного, дугового, термического, электронно-лучевого и др. Приборы эффективны при нанесении сложных оптических покрытий (просветляющих, отражающих, интерференционных светофильтров). Их информационные возможности намного превосходят возможности известных систем контроля коэффициента отражения покрытия на фиксированной длине волны, или систем контроля толщины покрытия, например, на пьезодатчиках.
Приборы предназначены для контроля коэффициента отражения как на подвижной, так и не подвижной поверхности образцов (изделий, свидетеля). В качестве основной информации на экране монитора компьютера в реальном времени представлен график зависимости коэффициента отражения покрытия (в %) от длины волны в пределах рабочего спектрального диапазона. Система также обеспечивает экспрессный послеоперационный контроль и регистрацию (с выводом результатов на печать) спектра отражения и спектра пропускания созданного покрытия.