Перейти к содержимому
Нанесение оптических декоративных покрытий на крупногабаритные изделия

Необходима вакуумная установка для нанесения оптическихдекоративных покрытий на крупногабаритные изделия.

Вакуумная установка V-1,5-«О»-IP предназначена для нанесения оптических покрытий с применением магнетронных и ионных источников на крупногабаритные изделия.

Установка может также использоваться для нанесения декоративных покрытий на детали различного назначения.

Состав вакуумной установки

Вакуумная установка состоит из следующих основных узлов:

  1. Форвакуумная система откачки, 2 шт.
  2. Высоковакуумная система откачки, 4 шт.
  3. Вакуумная камера: диаметром 2000 мм , длина 2600 мм.
  4. Магнетронный источник, 3 шт.
  5. Ионный источник, 1 шт.
  6. Технологическая оснастка, 1 шт.
  7. Стойка управления, 1 шт.
  8. Стойка питания, 3 шт.
  9. Прибор спектрального управления и контроля технологическим газом, 1 шт.
  10. Спектрометрическая система контроля толщины оптических покрытий, 1 шт.
  11. Нагреватели, 6 шт.

Основные технические характеристики

  1. Время достижения давления в рабочей камере: 2х10-3 Па – 30 мин.
  2. Мощность блоков питания магнетрона: 10-25 кВт.
  3. Размер мишени магнетрона:
    Длина: 1960 мм.
    Ширина: 85 мм.
  4. Размер ионного пучка на срезе анода:
    Длина: 2000 мм.
    Ширина: 100 мм.
  5. Ускоряющее напряжение ионного источника: 0-2500 В.
  6. Рабочий диапазон давлений ионного источника: 10-1 – 10-2 Па.
  7. Ионный ток источника: 0-0,6 А.
  8. Режим сопутствующий ионной обработке ионным источником обеспечивается.
  9. Система анализа плазмы – многоканальная.
  10. Система контроля толщины покрытий может работать как на отражение, так и на пропускание с выводом спектральной характеристики на монитор компьютера.
  11. Диапазон контроля толщины покрытий: 300-900 нм.
  12. Размещение технологических источников – внутрикамерное.

Технологическая возможность установки

  • Нанесение покрытий на внутренние и наружные поверхности изделий.
  • Нанесение покрытий на стекло, керамику, оптику, металлическую и другие подложки.
  • Формируемые покрытия: окислы AL2O3, TiO2, (Si/Al)2O3, (In/Sn)2O3, Zr2O3, металлы (Ti, Al, Zr и т.д.), нитриды (TiN, AlN, ZrN), карбиды (TiC, ZrC), карбонитриды и т.п.
С уважением, специалисты компании «Технологии и Предложения».
Ваш партнер в области плазменной обработки поверхности
Компания

© Технологии и предложения. Все права защищены. Разработка Websmart.