Алгоритмы управления расходом газов при ионно-лучевой очистке поверхностей сводятся к поддержанию на постоянном уровне ионного тока распылителя или давления в вакуумной камере путем управления расходом инертного или реактивного газа. Для ионно-лучевых технологий осаждения покрытий заданного состава необходимо поддерживать на постоянном уровне ионный ток распылителя и состав смеси инертного и реактивного газов путем управления расходами этих газов. Для технологий ионно-плазменного (магнетронного) нанесения покрытий сложного химического состава целесообразно использовать оптические алгоритмы управления, которые сводятся к регистрации с помощью оптических датчиков интенсивности одного или нескольких контрольных элементов (спектральная линия, молекулярная полоса) эмиссионного оптического спектра разряда и выработке сигналов, управляющих расходами газов в реальном времени.

С целью реализации указанных алгоритмов разработан контроллер, который можно адаптировать к широкому кругу технологических установок. Контроллер обеспечивает управление расходами газов для процессов ионной очистки, а также нанесения пленок химических соединений металлов с реактивными газами магнетронными и ионно-лучевыми распылителями в заданной последовательности и с заданным количеством и толщиной слоев. Использование системы управления расходом рабочих газов РРС 1000 обеспечивает постоянство давления в вакуумной камере при ионной очистке, постоянство состава смеси инертного и реактивного газов и давления в вакуумной камере при магнетронном распылении, постоянство ионного тока распылителей и парциального расхода реактивного газа при ионно-лучевом распылении.